國家新型顯示技�(shù)�(chuàng)新中心發(fā)布第八屆中國�(chuàng)新挑�(zhàn)賽新型顯����
第一批技�(shù)�(chuàng)新需�
第八屆中國創(chuàng)新挑�(zhàn)�(廣東·國家新型顯示技�(shù)�(chuàng)新中�)新型顯示專題賽是由科技部指�(dǎo)、科技部火炬中心和廣東省科�(xué)技�(shù)廳共同主辦的以需求為核心促進科技成果�(zhuǎn)化的國家級賽事。根�(jù)《科技部關(guān)于舉辦第八屆中國�(chuàng)新挑�(zhàn)賽的通知》(國科�(fā)火�2023�110號)有關(guān)部署�要求,大賽聚�我國新型顯示�(chǎn)�(yè)�(guān)鍵材料和核心裝備兩大卡脖子問�,以解決新型顯示�(chǎn)�(yè)技�(shù)需求為目標(biāo),面向社會公�征集解決方案,通過“挑戰(zhàn)”“比拼”的方式,擇優(yōu)確定解決方案�
�(jīng)向國家新型顯示技�(shù)�(chuàng)新中心各�(chuàng)新平�征集�我中�遴選��11��(chǎn)�(yè)共�技�(shù)�(chuàng)新需求,面向全國公告,尋求挑�(zhàn)��
本批�(fā)布的技�(shù)需求清單共11項,主要涵蓋了半�(dǎo)體顯示領(lǐng)域大模型、量子點材料與器件開�(fā)、反射式顯示�TFT技�(shù)等領(lǐng)域,詳見下表�
序號 |
需求編� |
需求名� |
研究�(nèi)� |
�(lián)合開�(fā)目標(biāo) |
�(fā)布單� |
1 |
202301-1 |
半導(dǎo)體顯示領(lǐng)域知識體系與大模型開�(fā) |
�1)開�(fā)半導(dǎo)體顯示領(lǐng)域知識庫 �2)開�(fā)半導(dǎo)體顯示領(lǐng)域的評測體系 �3)大模型體系的訓(xùn)練與微調(diào) �4)大模型的部署使用、迭代更新及維護 |
以一套專�(yè)系統(tǒng)的形式體�(xiàn), 擬設(shè)立基�(chǔ)及專�(yè)定制版兩個版�, 面向�(lǐng)域內(nèi)使用, 并可開展對外服務(wù) |
國家新型顯示技�(shù)�(chuàng)新中心本� |
2 |
202301-2 |
高性能藍色量子點材料與器件開發(fā) |
�1)高性能藍色量子點關(guān)鍵材料開�(fā) �2)藍�QLED器件�(guān)鍵功能材料開�(fā) �3)藍�QLED器件開發(fā)及衰減機制研� �4)藍�QLED打印器件與工藝關(guān)鍵技�(shù)開發(fā) |
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國家新型顯示技�(shù)�(chuàng)新中心本�
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3 |
202302-1 |
電潤濕電子紙用關(guān)鍵氟樹脂材料開發(fā) |
�1)無定形含氟聚合物合成技�(shù) �2)面向電潤濕顯示無定形含氟聚合物可控�(guān)鍵制備技�(shù) �3)含氟聚合物的放大生�(chǎn)�(guān)鍵技�(shù)
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反射式顯示創(chuàng)新平臺:華南師范大學(xué) |
4 |
202303-1 |
超高遷移率氧化物TFT開發(fā) |
�2)稀土摻雜氧化物TFT器件�(jié)�(gòu)及界面優(yōu)化關(guān)鍵技�(shù) �3)低功耗、高密度像素陣列集成及封裝技�(shù) |
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TFT技�(shù)�(chuàng)新平臺:廣州新視界光電科技有限公司,華南理工大�(xué) |
5 |
202304-1 |
掃描探針顯微及光譜檢測方法與裝置研發(fā) |
�1)高精度、高效率掃描探針成像�(guān)鍵技�(shù) �2)針尖近場光場分布及光場漩渦理論探究 �3)顯示器件材料的振動光譜分析�(guān)鍵技�(shù) �4)顯示器件載流子輸運、復(fù)合過程及機理研究 �5)顯示器件輻射發(fā)光、激子衰變過程及機理研究 |
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顯示裝備�(chuàng)新平臺:季華實驗室�
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6 |
202304-2 |
新型柔�OLED器件空間�ALD封裝技�(shù)開發(fā) |
高速率無機薄膜沉積技�(shù) �2)高速動�(tài)流場控制技�(shù)
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開發(fā)一套空間型ALD�(shè)�, 封裝薄膜可實�(xiàn)以下性能:
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顯示裝備�(chuàng)新平臺:季華實驗室�
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7 |
202305-1 |
�PPI FMM Mask開發(fā) |
�1)高精度FMM Mask基材�InVar合金或鐵鎳合金)開發(fā)技�(shù) �2)高精度FMM Mask圖案化方案(電鍍或激光刻蝕) �3)高精度FMM Mask制作工藝 |
像素密度達到1500PPI�FMM Mask
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蒸鍍OLED�(chuàng)新平臺:維信諾科技股份有限公司
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8 |
202305-2 |
顯示用可拉伸�(dǎo)電材料開�(fā) |
�1)超高拉伸率�(dǎo)電材料開�(fā) �2)適用拉伸顯示低電阻�(guān)鍵技�(shù)開發(fā) |
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蒸鍍OLED�(chuàng)新平臺:云谷(固安)科技有限公司 |
9 |
202306-1 |
超高密度GaN Micro-LED微顯� |
�1)高�(zhì)�GaN Micro-LED外延材料生長�(guān)鍵技�(shù) �2)高性能Micro-LED器件的設(shè)計與制備技�(shù) �3�Micro-LED�CMOS背板鍵合集成技�(shù) �4)基于硅�CMOS�Micro-LED顯示樣機集成技�(shù) |
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Micro-LED顯示�(chuàng)新平臺:福州大學(xué)、閩都創(chuàng)新實驗室
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10 |
202301-3 |
基于噴墨打印工藝�Mini-LED顯示封裝技�(shù)開發(fā) |
�1�Mini-LED顯示用打印封裝黑色掩膜材料開�(fā) �2�Mini-LED顯示基板、芯片及掩膜材料適配技�(shù)開發(fā) �3)適用于Mini-LED顯示用噴墨打印關(guān)鍵工藝技�(shù)開發(fā) |
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國家新型顯示技�(shù)�(chuàng)新中心本部�
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11 |
202307-1 |
激光顯示用高功率藍光半�(dǎo)體激光器 |
�1)大失配異質(zhì)�(jié)激光材料設(shè)計、生長和�(diào)控關(guān)鍵技�(shù) �2)載流子的泄漏抑制、光增益增強與光損耗抑制技�(shù) �3)器件可靠性提升及�(yīng)用技�(shù) |
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激光顯示創(chuàng)新平臺:中國科學(xué)院理化技�(shù)研究所,杭州中科極光科技有限公司
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二、挑�(zhàn)須知
(一)挑�(zhàn)資格�
遵守國家法律法規(guī)及大賽規(guī)則且具有相應(yīng)研發(fā)能力的高等院校、研究機�(gòu)、企�(yè)和技�(shù)團隊等均可報名參加挑�(zhàn)�
(二)挑�(zhàn)報名�
1、報名前,請來電與大賽承辦方開展技�(shù)對接交流�
2�報名材料(詳見附�2《挑�(zhàn)報名表�、附�3�中國�(chuàng)新挑�(zhàn)賽聲���通過大賽指定郵箱�[email protected])提�,截止時間為2023�10��逾期不再受理�同時提交WORD版及加蓋公章的PDF掃描件,解決方案一�(jīng)投遞,不予退還�掃描件與紙質(zhì)版須�(nèi)容一致,缺一視為材料不完整,取消�(xiàn)場賽推薦資料�
3、經(jīng)與大賽承辦方對接后,請參照附�4步驟在中國創(chuàng)新挑�(zhàn)賽官�(wǎng)� http://challenge.chinatorch.gov.cn)完成注冊�
(三)材料郵寄地址及聯(lián)系人
地址:廣東省廣州市黃埔區(qū)光譜中路11號云升科�(xué)�A�
�(lián)系方式:楊東� 15521059006
莊佳� 18819155538
三、評審機�
專家賽前初選+�(xiàn)場賽專家評審。嚴(yán)格按照客觀、公平、公正、科�(xué)、擇�(yōu)的原則,根據(jù)科技部挑�(zhàn)賽相�(guān)文件要求,通過技�(shù)、承�(dān)能力與工作基�(chǔ)評價等,對挑�(zhàn)者進行綜合排名,評選結(jié)果當(dāng)場公布�
四、大賽獎�
針對�(jīng)挑戰(zhàn)賽達成合作,且取得預(yù)期成果的技�(shù)解決方,給予項目合作資金支持。同時設(shè)置以下獎勵:
�(guān)注我�
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